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      關于光譜干涉式晶圓測厚儀SF-3的特征及用法

      更新時間:2023-04-14      瀏覽次數:910

      特征

      • 通過光學方法可以進行非接觸式和非破壞性的厚度測量。

      • 實現高測量再現性

      • 可實時高速監控拋光

      • 實現了長 WD(工作距離)并且易于集成到設備中

      • 從主機設備使用 LAN 通過 TCP/IP 通信進行控制

      • 可以進行多層厚度測量

      • 可測量臨時晶圓(臨時鍵合晶圓)各層厚度

      用法

      • 各種晶圓(硅、其他化合物晶圓)的厚度測量

      • 融入各種工藝,如研磨、拋光、粘合等。

      • 晶圓以外的厚膜部件厚度測量

      • 300 毫米晶圓測繪系統

      • 通過對準精細圖案提供晶圓厚度和各種厚度信息

      • 配備高精度XY定位平臺(±2μm以下),實現高精度定位

      • 可以處理晶圓以外的形狀

      • 可以檢查測量點周圍的視野

      • 對應半導體用300mm晶圓

      • 與 MEMS 和傳感器設備兼容


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