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      您的位置:首頁  -  技術文章  -  野村nomura-nms 超純水用新型*(H2)監測儀 NOXiEMON®半導體中作用

      野村nomura-nms 超純水用新型*(H2)監測儀 NOXiEMON®半導體中作用

      更新時間:2026-01-12      瀏覽次數:127

      Nomura Micro Science(野村微電子科技) 開發的NOXiEMON®是不使用化學試劑的超純水中*在線監測儀,專為半導體、制藥等高純工藝領域設計。核心創新技術采用N-Lite® DEP(酵素擔持樹脂),通過固定化酶反應將H?O?直接分解為O?,再通過高精度DO計測量生成的氧氣濃度,間接換算H?O?含量。這一革命性設計摒棄了傳統化學法需要的試劑添加系統

      標準技術規格


      | 參數項                       | 規格值                      

      | --------                     | ------------------------ 

      | 測量原理                   | N-Lite® DEP酶反應 + DO溶解氧檢測 

      | 測量范圍                   | 0.3~60 ppb               

      | 檢測下限                  | 0.3 ppb(DO波動≤0.1ppb時)    

      | 測量上限                  | 60 ppb                   

      | 精度                          取決于DO計精度(通常±0.1ppb)      

      | 尺寸                        | 600×600×1200 mm(W×D×H)   

      | 重量                        | 約100 kg                  

      | 自動功能                 | 自診斷、自動沖洗啟動               

      產品核心優勢? 無試劑消耗:無需添加任何化學試劑,大幅降低運行成本和環境負擔? 維護簡便:無需更換試劑管路、泵閥等易損件? 抗干擾能力強:可準確測量TOC-UV系統產生的H?O?,不受其他物質干擾? 智能自診斷:自動判定N-Lite® DEP樹脂劣化狀態,預警更換時機? 超純水專用:專為電阻率≥18MΩ·cm的超純水系統設計典型應用場景半導體制造:監測TOC-UV氧化后殘留H?O?濃度晶圓清洗:控制清洗液中H?O?濃度在ppb級超純水系統:在線驗證UV氧化效率制藥用水:無菌制劑用水的痕量氧化劑監控

      與傳統技術對比


      | 對比項       | NOXiEMON®酶法         | 傳統化學法(如鈦絡合物法) |

      | ---------   | -----------                       | ------------- |

      | 試劑消耗  | 無                                     | 需持續添加化學試劑     |

      | 維護頻率  | 低(僅更換樹脂)             | 高(試劑管路、泵閥)    |

      | 速度        | 實時響應                            | 2-10分鐘響應      |

      | 交叉污染 | 無                                      | 試劑可能引入污染      |

      | 運行成本  | 低                                     | 高(試劑+廢液處理)    |

      | 環境友好性| 優(無廢液)                  | 差(產生化學廢液)     |




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