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更新時間：2026-04-13 
瀏覽次數：71產品概述
TohoSpec3100系列是Nanometrics（現Onto Innovation）NanoSpec3000系列的正式后繼機，2014年起由東朋科技承接技術轉移并開始制造銷售 。該系列是業界標準的高精度光干涉式膜厚測量設備，在半導體研發領域擁有長期信賴和實績。
兩款型號對比
核心特點
1. 高精度測量性能
采用線性二極管陣列受光元件，實現高速、高精度測量
測量再現精度可達2?以下（同一點15次測定）
可同時測量最多3層多層膜的膜厚及光學常數(n,k)
2. 先進的光譜分析軟件
配備多種薄膜測量算法（最多15種標準算法）
支持Cauchy模型、OJL模型、Tauc-Lorentz模型、擴展Drude模型等光學材料表征模型
可評估表面粗糙度（EMA模型）和深度方向非均勻性（分級模型）
3. 靈活的程序設定
可根據不同膜特性設定詳細參數，適應各類膜結構
支持特殊膜測量程序的簡單設定
兼容舊機型NanoSpec3000的recipe移植
4. 系統配置
操作系統：Windows 7/10（32位英文版）
計算機要求：Core i5以上，支持臺式機或筆記本
連接方式：RJ-45以太網接口
數據處理：測定值、統計值（平均值、σ、3σ）、直方圖、5點校正等
主要應用領域
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