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儀表，電子設(shè)備

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showashinku盒對(duì)盒式干法蝕刻裝置濺射和離子板

showashinku盒對(duì)盒式干法蝕刻裝置濺射和離子板SPE
真空室主要是配備運(yùn)輸機(jī)器人的運(yùn)輸室，由蝕刻室和盒室三個(gè)房間組成。
真空室材料由A5052制成，A5052對(duì)運(yùn)輸室，蝕刻室和盒室都進(jìn)行了脫脂處理。

產(chǎn)品型號(hào)：SPE
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2023-04-11
訪問量：942

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產(chǎn)品詳情

品牌	其他品牌	產(chǎn)地	國產(chǎn)

showashinku盒對(duì)盒式干法蝕刻裝置濺射和離子板SPE

特征
1.	緊湊型設(shè)備尺寸（1000mmW×1100mmD×1600mmH）
2.	單晶圓系統(tǒng)，生產(chǎn)率高，是批量生產(chǎn)的理想選擇
3.	加工質(zhì)量高
	?	單晶圓類型確保高蝕刻均勻性。
	?	背面采用非接觸式氣冷系統(tǒng)，不會(huì)損壞基板背面
4.	采用高真空排氣裝置
5.	高可維護(hù)性
	?	真空室的小型化便于維護(hù)
6.	由于設(shè)備外形緊湊，安裝位置沒有限制

設(shè)備配置

真空室主要是配備運(yùn)輸機(jī)器人的運(yùn)輸室，由蝕刻室和盒室三個(gè)房間組成。
真空室材料由A5052制成，A5052對(duì)運(yùn)輸室，蝕刻室和盒室都進(jìn)行了脫脂處理。

排氣系統(tǒng)

渦輪分子泵	1套（蝕刻室）
旋轉(zhuǎn)泵	2套（蝕刻室、盒式室和運(yùn)輸室組合）

極限壓力	2.7×10-3Pa以下（蝕刻室）
排氣時(shí)間	3分鐘內(nèi)至0.10×2-2Pa（蝕刻室）
蝕刻深度	65nm *配對(duì)BK7玻璃（使用φ3英寸或φ4英寸基板時(shí)）
蝕刻分布	±5%以內(nèi) *保修區(qū)域：50×50mm以下
循環(huán)時(shí)間	300秒（24張/ 1盒，φ3或φ4英寸板）*參考值

供電系統(tǒng)

射頻電源	最大 500W （13.56兆赫）
匹配盒	全自動(dòng)匹配規(guī)格

氣體引入系統(tǒng)

CF/SF、氦、O2 質(zhì)量流量控制器 3

控制系統(tǒng)

使用定序器可以進(jìn)行全自動(dòng)操作。

處理的基板數(shù)量始終顯示在觸摸屏上，并且可以從最新的開始檢查錯(cuò)誤歷史記錄。

設(shè)備本體 1000mmW×1100mmD×1600mmH
設(shè)備重量 1000Kg

公用事業(yè)

電力	200V 3φ 50/60Hz 12KVA
冷卻水	ー
壓縮空氣	0.5兆帕 20升/分鐘
N2氣體	0.3兆帕 60升/分鐘

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