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儀表，電子設備

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您的位置：首頁 - 產品中心 - 儀表，電子設備 - otsukael - FE-5000/5000Sotsukael分光橢偏儀旋轉分析器膜厚計紫外光譜儀

otsukael分光橢偏儀旋轉分析器膜厚計紫外光譜儀

otsukael分光橢偏儀旋轉分析器膜厚計FE-5000/5000S的介紹

除了可以進行高精度薄膜分析的分光橢圓偏光法外，它還通過實現自動可變測量角度機構來兼容所有類型的薄膜。除了傳統的旋轉分析器方法外，還通過為延遲板提供自動安裝/拆卸機構提高了測量精度。

產品型號：FE-5000/5000S
廠商性質：經銷商
更新時間：2023-04-14
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otsukael分光橢偏儀旋轉分析器膜厚計FE-5000/5000S的介紹

除了可以進行高精度薄膜分析的分光橢圓偏光法外，它還通過實現自動可變測量角度機構來兼容所有類型的薄膜。除了傳統的旋轉分析器方法外，還通過為延遲板提供自動安裝/拆卸機構提高了測量精度。

可在紫外-可見（300 至 800 nm）波長范圍內測量橢圓參數
能夠分析納米級多層薄膜的膜厚
通過 400 通道或更多通道的多通道光譜快速測量橢圓光譜
支持通過可變反射角測量對薄膜進行詳細分析
通過創建光學常數數據庫和添加配方注冊功能提高可操作性

橢圓參數（tanψ，cosΔ）測量
光學常數（n：折射率，k：消光系數）分析
膜厚分析

半導體ウェーハ
ゲート酸化薄膜，窒化膜
SiO₂，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al₂O₃，SiN_xO_y，poly-Si，ZnSe， BPSG，TiN
レジストの光學定數(波長分散)
化合物半導體
Al_xGa_(1-x)As 多層膜，アモルファスシリコン
FPD
配向膜
各種新素材
DLC(Diamond Like Carbon)，超伝導用薄膜，磁気ヘッド薄膜
光學薄膜
TiO₂，SiO₂，反射防止膜
リソグラフィー分野
g線(436nm)，h線(405nm)，i線(365nm)などの各波長におけるn，k評価

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